2019年中國CMP抛光資料行業市場發展示狀 

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          行業動態

          2019年中國CMP抛光資料行業市場發展示狀 

          文字:[大][中][小] 2019-5-20    閱讀次數:1381    

           

                      2019年中國CMP抛光資料行業市場發展示狀 

          據立木信息征詢宣布的《中國CMP抛光資料市場調研與投資計謀申報(2019版)》顯示:CMP化學機械抛光(ChemicalMechanicalPolishing)工藝是半導體系體例造過程當中的癥結流程之一,應用了磨損中的“軟磨硬”道理,即用較軟的資料來停止抛光以完成高質量的外面抛光。經由過程化學的和機械的綜協作用,從而防止了由純真機械抛光釀成的外面毀傷和由純真化學抛光易釀成的抛光速度慢、外面平整度和抛光分歧性差等缺陷。

            隨著集成電路芯片工藝制程技術的賡續提高,芯片的集成度賡續進步,使得晶圓制作對硅片外面的平整度請求也賡續進步,是以對CMP工藝的需求賡續增長。例如,深亞微米DRAM所需的硅片需停止3-6次CMP,深亞微米MPU需停止9-13次CMP。依據數據,2015年全球CMP抛光資料市場範圍到達15.9億美元,到2017年到達17.2億美元。

            抛光墊今朝重要被陶氏化學公司所壟斷,市場份額到達90%閣下,其他供給商還包含日本東麗、3M、台灣三方化學、卡博特等公司,算計份額在10%閣下。抛光液方面,今朝重要的供給商包含日本Fujimi、日本HinomotoKenmazai,美國卡博特、杜邦、Rodel、Eka,韓國ACE等公司,占領全球90%以上的市場份額,國際這一市場重要依附出口。

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